日本USHIO牛尾中村到貨曝光裝置UP-S-1200

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處理能力強：可處理多種尺寸的電路板，如能處理 φ1 英寸～φ12 英寸（220×220mm）的電路板，滿足不同用戶的需求。

功能豐富：具有顯影、沖洗、后沖洗等多種功能，流程標準配置下顯影液有 1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴），沖洗有 1 個系統(tǒng)（2 個噴嘴），后沖洗有 1 個系統(tǒng)，可確保光刻膠顯影的質(zhì)量和效果。

安全性能高：設(shè)有多種安全聯(lián)鎖裝置，如真空吸附確認傳感器、處理室蓋聯(lián)鎖、吸嘴移動超限限位器等，可防止在設(shè)備運行過程中出現(xiàn)意外情況，保障操作人員和設(shè)備的安全。

參數(shù)控制精準：轉(zhuǎn)數(shù)可在 0～3,000rpm 范圍內(nèi)精確控制，能根據(jù)不同的顯影工藝要求進行調(diào)整。同時，設(shè)備的化學(xué)壓力輸送系統(tǒng)可以精準控制壓力罐壓力，確保藥液穩(wěn)定噴出，保證顯影效果的一致性。

程序模式多樣：擁有 48 步的步驟數(shù)，具備跳過和復(fù)制功能，有 10 種程序模式可供選擇，用戶可根據(jù)不同的工藝需求靈活設(shè)置顯影流程，提高設(shè)備的適用性和靈活性。

溫度管理可選：可選擇配備化學(xué)溫度管理系統(tǒng)（加壓系統(tǒng)），能夠?qū)︼@影液等化學(xué)溶液的溫度進行精確控制，有助于提高顯影工藝的穩(wěn)定性和重復(fù)性，特別是對于一些對溫度敏感的光刻膠材料，溫度管理系統(tǒng)可以有效提升顯影質(zhì)量。

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