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日本USHIO牛尾MIKASA光刻機MA-10B 操作方式與對準精度：屬于手動操作、接觸式對準曝光機，使用對物鏡 20× 時，對準精度 1.2μm，能夠較為精確地將掩模上的圖案對準到晶圓或基板上，保證圖案轉移的準確性。
日本USHIO牛尾AR鍍膜激光器HL67011DG$n技術參數波長：中心波長為 671nm，波長精度在 ±3nm。$n輸出功率：可實現 200mW 的高可靠光輸出功率。$n工作溫度：能在 75°C 的高溫下穩定工作。$n增益帶寬：增益峰值 10nm 或更高，可通過溫度控制自由調節。$n反射率：采用設計和優良薄膜沉積技術，正面設計反射率小于 0.1%。$n產品優勢寬增益帶寬：與傳統的鍍膜法布里 - 珀羅。
日本USHIO牛尾激光儀器 HL63703HD 防反射 （AR） 涂層 LD 產品采用 Ushio 設計和優良的薄膜沉積技術，正面設計反射率為 0.1%。 與傳統的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調諧激光器的理想選擇，因為它們可以與衍射光柵和干涉濾光片結合使用，以產生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術（光晶格時鐘、激光冷卻）和光譜學的應用。
日本USHIO牛尾AR 鍍膜半導體激光管HL70021DG 防反射 （AR） 涂層 LD 產品采用 Ushio 設計和優良的薄膜沉積技術，正面設計反射率為 0.1%。 與傳統的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調諧激光器的理想選擇，因為它們可以與衍射光柵和干涉濾光片結合使用，以產生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術（光晶格時鐘、激光冷卻）和光譜學的
日本USHIO牛尾AR 鍍膜半導體激光管HL69001DG 防反射 （AR） 涂層 LD 產品采用 Ushio 設計和優良的薄膜沉積技術，正面設計反射率為 0.1%。 與傳統的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調諧激光器的理想選擇，因為它們可以與衍射光柵和干涉濾光片結合使用，以產生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術（光晶格時鐘、激光冷卻）和光譜學的
日本USHIO牛尾激光儀器HL67011DG AR 鍍膜半導體激光管 防反射 （AR） 涂層 LD 產品采用 Ushio 設計和優良的薄膜沉積技術，正面設計反射率為 0.1%。 與傳統的鍍膜法布里-珀羅 LD 相比，寬增益帶寬使其成為外腔波長可調諧激光器的理想選擇，因為它們可以與衍射光柵和干涉濾光片結合使用，以產生具有窄線寬的特定波長模式的激光振蕩。它可以廣泛用于量子技術（光晶格時鐘、激光
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