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中村供應：日本ORC臭氧發生模塊ARV-M020D 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
在庫現貨：日本ORC臭氧發生模塊ARV-M005D 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
現貨庫存：日本ORC臭氧發生模塊ARV-M001D 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
常備庫存：日本ORC 激光加工設備Exa-MS5 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村供貨：日本ORC半導體用紫外線照射裝置VUM-3500 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
中村庫存：日本ORC半導體用光刻設備PPS-8500 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
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