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KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨SDL3600 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU100X 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU180X 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU300X 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵中村到貨MU600X 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
中村供應:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵MU1218X 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。