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中村供貨:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry60E 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
中村供貨:KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry100E 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry300E 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry7G 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry15G 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。
KASHIYAMA日本樫山工業真空泵NeoDry30G 無油干式設計:采用無潤滑油機械結構,可避免介質污染,適用于超潔凈工藝環境,如半導體晶圓制造等。